Вакуумная напылительная установка SCD 004

LEO 906E

Применение
Поверхность образца, исследуемого на СЭМ, должна быть электропроводной. Это необходимо для предупреждения искажения изображения электрическими зарядами, создающимися на поверхности образца и для достижения лучшей вторичной эмиссии электронов, которая важна при формировании изображения. Образцы, не являющиеся проводниками электричества, должны быть покрыты электропроводной пленкой. Общепринятый метод изготовления таких пленок - напыление под высоким вакуумом, но для этих целей также подходит разбрызгивающий "напылитель". Напыление особенно подходит для образцов, поверхность которых отличается структурным разнообразием. SCD 004 позволяет покрывать поверхность образца подходящими металлами так же, как испарительное покрытие, тонкими угольными пленками, чтобы сделать их электропроводными.

Принцип работы
Давление приблизительно 0.05 mbar устанавливается в камере разрешенным газом (предпочтительно, аргоном) через дозирующий клапан. После приложения высокого напряжения загорается светящийся разряд между предметным столиком (анод) и распыляемой мишенью (катод). Положительно заряженные ионы аргона с ускорением устремляются к катоду, выбивая при ударе из "распыляемой" диафрагмы атомы металла. Освобожденные таким образом атомы металла и многочисленные молекулы газа в рабочей камере часто сталкиваются; при этом атомы металла широко рассеиваются и образуют диффузное облако, из которого атомы более или менее равномерно осаждаются на окружающие поверхности, в том числе и на поверхность образца. Этот процесс формирует гомогенную, тонкую пленку металла, одинаковую на сильно изломанных поверхностях. Эта пленка имеет достаточную для изучения на СЭМ электропроводность. Толщина этой металлической пленки зависит от материала диафрагмы, рабочего расстояния, давления газа, тока светящегося разряда и продолжительности процесса. Практический выбор параметров зависит от устойчивости покрываемого образца к теплу. Таким образом, рабочее расстояние так же велико, как можно выбрать для температурной чувствительности образца, вместе с низким напряжением разряда и увеличением времени напыления.



Приборный Центр "Электронная микроскопия" c 2002